拓荆科技净利润预增三倍，薄膜沉积设备需求仍超预期 | 见智研究

10月20日晚，拓荆科技公布了22年前三季度的业绩预告：预计实现营业收入9.5-10亿元,同比增长154.08%-167.45%；归母净利润为2.3-2.4亿元，同比增长约3倍。

根据预告数据以及上半年的营收和利润情况，可推算22Q3公司收入为4.27-4.77亿元；单季度收入再创新高22Q2为4.16亿元）

依照设备公司的历史收入规律来看，采购多发生在下半年，Q3、Q4的收入有递增趋势。

如果Q4的收入再创单季度新高的话，那么公司全年的营业收入将会达到14亿元，超过市场预期（一致性预期：22年收入13.51亿元，同比增长78.19%）

归母净利润为1.22-1.32亿元，也创下单季度新高。（Q2净利润为1.20亿元）

华尔街见闻·见智研究认为：公司的业绩高增原因预计仍然与中报时候相同，PECVD销售订单量持续增长。并且设备类一直是半导体领域中毛利率非常高的，一般在40-50%左右，一旦形成技术优势，将在很长一段时间内保持较高的竞争壁垒。

国内晶圆厂扩产带动设备需求增长。晶圆制造设备占半导体设备投资的主要比重，高达80%，这其中主要包括刻蚀机、薄膜和光刻机。

薄膜沉积设备的投资比重比仅次于刻蚀设备，占比达25%，高于光刻设备。薄膜沉积设备所沉积的薄膜技术参数直接影响芯片性能。

因此，晶圆厂对薄膜沉积设备所需要的验证时间会相对比一些半导体专用设备可能更长。测试设备的占比比较小，分别为10%和8%。

拓荆科技收入构成上：PECVD（等离子体增强化学气相沉积）占比达到89%；SACVD（次常压化学气相沉积）和ALD（原子层沉积）对收入的贡献比较小，分别占到5%和4%。

产品力方面：公司无疑是国内的龙头企业。在化学气相沉积设备上暂时没有可以与之竞争的公司。国内知名的龙头设备公司中，不存在直接与公司主业竞争的情况。北方华创提供的是物理沉积设备（PVD）和ALD。

目前，公司的产品适配 180-14nm 的逻辑芯片、19/17nm 的 DRAM 及 FALSH 制造工艺需求，兼容 SiO2、SiN等多种反应材料。

客户集中度较高，前五大客户合计收入占比在80%以上。客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储、 长鑫存储等国内主流晶圆厂商。

本土晶圆厂扩建的步伐仍旧在加速。根据公开信息显示：预计2022-2026年期间，本土还将新增25座12英寸晶圆厂，规划新增月产能超过160万片。预计2026年底，12英寸晶圆厂的总月产能将超过276.3万片。

晶圆厂的扩建势必会与设备需求增长形成共振。所以，由于设备需求的不断增加，销售订单持续增长，公司营业收入未来仍旧会保持强劲的增长势态。