1
英特尔订购业界首个TWINSCAN EXE:5200系统，与ASML推进High-NA EUV技术
source link: https://www.expreview.com/81913.html
Go to the source link to view the article. You can view the picture content, updated content and better typesetting reading experience. If the link is broken, please click the button below to view the snapshot at that time.
英特尔订购业界首个TWINSCAN EXE:5200系统，与ASML推进High-NA EUV技术
吕嘉俭发布于 2022-1-19 16:37
本文约 560 字，需 1 分钟阅读
ASML宣布与英特尔的长期合作进入了新的阶段，双方将携手推进半导体光刻前沿技术。目前英特尔已经向ASML发出第一份采购订单，用于购买业界首个TWINSCAN EXE:5200系统。这是一种具有高数值孔径（High-NA）和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光（EUV）大批量生产系统，为双方长期的High-NA EUV技术合作搭建框架。
ASML总裁兼首席技术官Martin van den表示，英特尔对ASML在High-NA EUV技术的远见和早期承诺证明了对摩尔定律的不懈追求。与目前的EUV系统相比，ASML的扩展EUV路线图以更低的成本、时间周期和架构等方面提供了持续的改进，这将是推动芯片行业未来十年发展的动力所在。
在去年七月份的“英特尔加速创新：制程工艺和封装技术线上发布会”上，英特尔CEO帕特-基尔辛格（Pat Gelsinger）展示了一系列底层技术创新，这些技术将驱动英特尔到2025年乃至更远未来的新产品开发。英特尔公布其近十多年来首个全新晶体管架构RibbonFET和业界首个全新的背面电能传输网络PowerVia之外，还重点介绍了迅速采用下一代极紫外光刻（EUV）技术的计划，表示将部署业界第一台High-NA EUV光刻机。
英特尔在2018年率先购买了早期的TWINSCAN EXE:5000系统，这次合作将延续英特尔从2025年使用High-NA EUV进行生产制造的道路。新的EUV系统将提供0.55数值孔径，与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比，精度会有所提高，可以实现更高分辨率的图案化，以实现更小的晶体管特征。
Recommend
About Joyk
Aggregate valuable and interesting links.
Joyk means Joy of geeK